- Китай снова превзошел сам себя, установив... (439)
- «Похоже на компьютерную графику, но это... (393)
- Самые дешёвые китайские кроссоверы в России.... (418)
- Хакеры нашли новый способ обхода DRM-защиты... (391)
- Lada Niva Bronto начали выпускать в новом... (462)
- Американский Chevrolet Equinox в России... (315)
- Новая статья: Обзор QD-OLED 4K-монитора... (501)
- Новая статья: Обзор и тест материнской платы... (1024)
- Rocket Lab успешно завершила интеграцию... (864)
- Учёные решают ключевую проблему... (697)
- Физики готовятся воссоздать таинственную... (855)
- Китай усиливает давление на местные... (831)
- Министерство энергетики США инвестировало... (869)
- Массачусетский технологический институт... (774)
- Утечка в российской части МКС увеличивается,... (1214)
- Thermal Grizzly выпустила WireView Pro —... (998)
Переход к выпуску DRAM по нормам менее 10 нм с использованием EUV пока остается под вопросом из-за высоких затрат
Дата: 2017-09-27 18:55
Крупные производители микросхем DRAM на этапе технологических норм 1x/1y продолжат использовать многократное экспонирование, тогда как переход на литографию в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) на этапе менее 10 нм пока остается под вопросам. Об этом сообщает Digitimes со ссылкой на отраслевые источники.
Ранее предполагалось, что переход на EUV произойдет, когда нормы станут меньше 20 нм, но высокая стоимость оборудования оттолкнула Samsung и других производителей DRAM. Как утверждается, отрасль будет придерживаться иммерсионной литографии с длиной волны 193 нм и многократным экспонированием, пока нормы будут больше 10 нм.
По имеющимся данным, на следующем этапе Samsung готовится к переходу на производство DRAM с использованием EUV. Но неизвестно, последуют ли ее примеру SK Hynix и Micron Technology. Дело в том, что освоение EUV сопряжено с огромными инвестициями.
Что касается выпуска логических микросхем, где Samsung выступает контрактным производителем, компания намерена освоить EUV в 2018 году, в первом поколении 7-нанометрового техпроцесса.
По прогнозу компании ASML, выступающей единственным поставщиком литографического оборудования EUV, отрасль примет новую технологию в 2019 году. Среди тех, кто первым освоит EUV, названы Globalfoundries, Intel, Samsung, SK Hynix и TSMC.
Теги:
Samsung
Комментировать
Подробнее на iXBT
Предыдущие новости
Роскосмос и NASA займутся совместным освоением дальнего космоса
На днях мы сообщали, что Роскосмос и Национальное управление США по воздухоплаванию и исследованию космического пространства (NASA) ведут переговоры о возможности взаимного использования пилотируемых космических кораблей. И вот теперь российское и американское космические агентства официально сообщили о расширении сотрудничества. Фотографии...
У Apple возникли проблемы при производстве компонентов для iPhone X
Корпорация Apple может столкнуться с дефицитом поставок новых смартфонов iPhone X. У компании обнаружились проблемы с производством компонентов, необходимых для работы датчика сканирования
В Facebook стали доступны аудиотреки благодаря «Яндекс. Музыке»
Представители поисковой системы «Яндекс» сообщили, что раздел «Музыка» стал первым отечественным стриминговым
Производитель пылесосов Dyson создаст собственный электромобиль
Джеймс Дайсон, известный английский изобретатель, основатель и глава Dyson, сообщил, что компания приступила к реализации амбициозного проекта по созданию электрического автомобиля. Фирма Dyson была основана в 1992 году. Эта компания разрабатывает оригинальные по принципу действия пылесосы, сушилки для рук, вентиляторы, светодиодные светильники и фены для волос. Продукция...