Исполнительному директору Intel Роберту Свону (Robert Swan) довелось выступить на мероприятии, организованном деловым изданием Fortune, и за двадцать с небольшим минут ведущему и гостям удалось выведать у главы компании немало интересного. Безусловно, многое из сказанного было озвучено ранее, но внимание аудитории наверняка привлечёт критическая оценка сделанных Intel ошибок, которые Свон в статусе нового руководителя полон решимости исправлять. Ведущий мероприятия постоянно подводил разговор к проблемам освоения 10-нм технологии, и во второй половине интервью Роберт Свон признался, что задержка освоения этой технологии вызвана изначально завышенными амбициями Intel. По его словам, если ранее так называемый «закон Мура» предполагал удвоение плотности размещения транзисторов каждые два года, то в последнее время период растянулся до двух с половиной лет. При разработке 10-нм техпроцесса первого поколения, который смог породить только мелкосерийные мобильные процессоры Cannon Lake с отключенной графикой, Intel поставила себе цель увеличить плотность размещения транзисторов в 2,7 раза вместо традиционных двух раз. За это компании пришлось поплатиться отставанием в технологической сфере от основных конкурентов.

Подробнее на 3Dnews.ru