Поставки голландских литографических машин в Китай в этом году выросли, причем за первые семь месяцев они уже превзошли прогноз по поставкам за весь 2023 год. Это происходит на фоне того, что китайские фирмы запасаются оборудованием в преддверии новых ограничений.

Почти все оборудование произведен компанией ASML. С начала года поставки выросли на 64,8% в годовом исчислении до 2,58 млрд долларов, о чем сообщила китайская консалтинговая компания полупроводниковой промышленности JW Insights. В январе ASML прогнозировала, что ее продажи в Китай в этом году составят 2,36 миллиарда долларов, что составит 14% всего оборота. Только в июле Китай импортировал из Нидерландов литографических машин на сумму 626 миллионов долларов США, что почти в восемь раз больше, чем за тот же месяц прошлого года.

ASML обладает почти монополией на самые современные в мире литографические машины, необходимые для производства передовых чипов. До сих пор компании удавалось продолжать поставки в страну менее совершенных систем литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), но ожидается, что ситуация вскоре изменится.

В соответствии с новыми правилами Нидерландов, которые вступают в силу 1 сентября, ASML будет обязана подать заявку на получение лицензии в Гааге на поставку своих самых передовых систем литографии DUV, что нанесет новый удар по полупроводниковой промышленности Китая.

В результате китайские фирмы поспешили накопить оборудование, чтобы продолжать удовлетворять производственные потребности как можно дольше после запрета. Высокий спрос со стороны Китая помог компенсировать спад в мировой полупроводниковой промышленности и увеличил доходы ASML в этом году.

Ранее в этом году китайское правительство осудило США за «принуждение» других стран к введению технологической блокады Китая и «подрыв рыночных правил и международной торговли», а также стабильности глобальной цепочки поставок.

В то же время китайские СМИ подчеркивали возможность того, что к концу этого года страна сможет поставить свою первую отечественную литографическую машину, способную производить 28-нанометровые чипы.