- G42 из ОАЭ и Cerebras построят в Индии... (221)
- Такое может только Apple: выпущенный 23 года... (103)
- Прототип Samsung Galaxy S26 Ultra обошел по... (99)
- Температура внутри космического корабля... (243)
- Цены на ОЗУ и SSD будут расти весь 2026 год:... (189)
- Apple создаёт локального ИИ-агента для... (197)
- Roblox обеспечила больше роста игровой... (205)
- У Realme появится новый смартфон за 150... (344)
- В России начали выпускать грузовик, очень... (251)
- Инженеры Samsung встроили в базовые станции... (239)
- MediaTek Dimensity 9500s и аккумулятор более... (487)
- Toyota собралась отобрать у водителей... (480)
- 4 литра чистого алюминия и абсолютная... (274)
- Платные подписчики YouTube Music начали... (279)
- SpaceX создала систему мониторинга спутников... (297)
- Цифровые двойники по текстовому промпту:... (290)
Переход на 2 нм. Samsung скупает установки для производства микросхем, каждая стоит от 210 млн по 400 млн долларов
Дата: 2025-10-20 10:37
Компания Samsung намерена значительно расширить парк оборудования для выпуска микросхем методом литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) и приобрести новую партию установок, включая самые передовые системы High NA. Эти шаги направлены на ускорение перехода к массовому производству по 2-нм техпроцессу.
Отдел хранения данных компании установит пять комплектов стандартного EUV-оборудования, создав независимую производственную линию. Ранее фабрики по производству пластин и подразделение хранения в Пхёнтхэке использовали общее оборудование.
Кроме того, Samsung добавит два комплекта литографической техники High NA EUV — одну установку планируется ввести в эксплуатацию в конце 2025 – начале 2026 года. Один комплект появится на заводе в Хвасоне, а второй, вероятно, будет размещён на площадке по производству пластин в Тейлоре.
Фото ASML Стоимость одного комплекта стандартной установки EUV оценивается в 210 млн долларов, оборудования High NA EUV — примерно в 400 млн долларов. Совокупные инвестиции компании в новое оборудование достигнут 1,8 млрд долларов.
Технология High NA EUV обеспечивает до 1,7 раза более точную топологию схем, почти в три раза более высокую плотность транзисторов и повышение оптической точности на 40% по сравнению с классическими системами EUV.
Подробнее на iXBT
Предыдущие новости
УАЗ прекратил выпуск «Буханок» и «Патриотов» с неэкологичными моторами
Ульяновский автозавод больше не будет выпускать свои автомобили с двигателями, отвечающими экологическому классу «Евро-2». «Модификации категории «Евро-2» выведены из модельной гаммы — на сегодняшний день все наши модели соответствуют более экологичным нормам «Евро-5». Возобновление производства автомобилей с «Евро-2» не планируется», — рассказали в пресс-службе УАЗа. Фото...
Миллионы зарядных станций со средней мощностью более 44 кВт. В Поднебесной инфраструктура для электромобилей стремительно растёт
Национальное управление по энергетике Китая опубликовало данные о станциях зарядки электромобилей в Китае. По данным Национальной платформы службы мониторинга зарядных станций, по состоянию на конец сентября этого года общее количество пунктов зарядки электромобилей в Китае достигло 18,063 млн, что на 54,5% больше по сравнению с аналогичным периодом прошлого года. Изображение...
Li Auto, Rox и Zeekr, а также зарядные устройства для них теперь продают в «М.Видео». Названы цены
«М.Видео» сообщает о старте пилотного проекта по продаже электромобилей и зарядной инфраструктуры на сайте и в мобильном приложении. Проект реализуется в партнерстве с АГ «Авилон» и компанией Punkt E, предлагающей решения для зарядки электротранспорта. По данным «Автостат», за первую половину 2025 года количество электромобилей и подзаряжаемых гибридов в стране выросло до 137...
Маск подсмотрел у Telegram: неактивные логины в X станут товаром на новом маркетплейсе
Социальная платформа X анонсировала запуск торговой площадки под названием X Handle Marketplace, на которой будут доступны неактивные логины пользователей. По сообщению The Verge, совсем скоро подписчики тарифов Premium Plus и Premium Business получат возможность просматривать и запрашивать такие логины. Источник изображения: Marten...