- Галактика-спутник Млечного Пути может... (1516)
- Открыты новые галактики-спутники Млечного... (1627)
- M**a скоро покажет полностью голографические... (1940)
- NASA выпустило видео с экскурсией по лунной... (1538)
- Китайский аналог американской ракеты Falcon... (1569)
- Так может только AMD. Стала известна дата... (2046)
- В Австралии запущен ИИ-суперкомпьютер... (1920)
- Ryzen 9000 будут дешевле Ryzen 7000 на... (1928)
- Первый в мире мотоцикл с... (1815)
- Lada Granta, Lada Vesta и три «китайца».... (1592)
- Это самый первый Rolls-Royce, официально... (1754)
- В Россию привезли Mazda 3 из Китая:... (1448)
- Двигатель 11,2 литра мощностью почти 200... (1595)
- SK hynix инвестирует $75 млрд в производство... (1472)
- Новый седан Renault Megane продают в России... (1750)
- Клиенты обанкротившейся криптобиржи Mt.Gox... (1464)
Переход к выпуску DRAM по нормам менее 10 нм с использованием EUV пока остается под вопросом из-за высоких затрат
Дата: 2017-09-27 18:55
Крупные производители микросхем DRAM на этапе технологических норм 1x/1y продолжат использовать многократное экспонирование, тогда как переход на литографию в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) на этапе менее 10 нм пока остается под вопросам. Об этом сообщает Digitimes со ссылкой на отраслевые источники.
Ранее предполагалось, что переход на EUV произойдет, когда нормы станут меньше 20 нм, но высокая стоимость оборудования оттолкнула Samsung и других производителей DRAM. Как утверждается, отрасль будет придерживаться иммерсионной литографии с длиной волны 193 нм и многократным экспонированием, пока нормы будут больше 10 нм.
По имеющимся данным, на следующем этапе Samsung готовится к переходу на производство DRAM с использованием EUV. Но неизвестно, последуют ли ее примеру SK Hynix и Micron Technology. Дело в том, что освоение EUV сопряжено с огромными инвестициями.
Что касается выпуска логических микросхем, где Samsung выступает контрактным производителем, компания намерена освоить EUV в 2018 году, в первом поколении 7-нанометрового техпроцесса.
![Массовое внедрение EUV на производствах ожидается к 2020 году](http://www.ixbt.com/short/images/2017/Mar/Untitled-1_003.jpg)
По прогнозу компании ASML, выступающей единственным поставщиком литографического оборудования EUV, отрасль примет новую технологию в 2019 году. Среди тех, кто первым освоит EUV, названы Globalfoundries, Intel, Samsung, SK Hynix и TSMC.
Теги:
Samsung
Комментировать
Подробнее на iXBT
Предыдущие новости
Роскосмос и NASA займутся совместным освоением дальнего космоса
На днях мы сообщали, что Роскосмос и Национальное управление США по воздухоплаванию и исследованию космического пространства (NASA) ведут переговоры о возможности взаимного использования пилотируемых космических кораблей. И вот теперь российское и американское космические агентства официально сообщили о расширении сотрудничества. Фотографии...
У Apple возникли проблемы при производстве компонентов для iPhone X
Корпорация Apple может столкнуться с дефицитом поставок новых смартфонов iPhone X. У компании обнаружились проблемы с производством компонентов, необходимых для работы датчика сканирования
В Facebook стали доступны аудиотреки благодаря «Яндекс. Музыке»
Представители поисковой системы «Яндекс» сообщили, что раздел «Музыка» стал первым отечественным стриминговым
Производитель пылесосов Dyson создаст собственный электромобиль
Джеймс Дайсон, известный английский изобретатель, основатель и глава Dyson, сообщил, что компания приступила к реализации амбициозного проекта по созданию электрического автомобиля. Фирма Dyson была основана в 1992 году. Эта компания разрабатывает оригинальные по принципу действия пылесосы, сушилки для рук, вентиляторы, светодиодные светильники и фены для волос. Продукция...