- Китайский суд запретил увольнять людей ради... (2610)
- Google опубликовала и сразу удалила... (3103)
- NASA зальёт деньгами производителей лунных... (3405)
- Незнакомые QR-коды опасны: Microsoft... (3112)
- Поиском мест для добычи воды на Марсе... (3143)
- Неоклауд Nebius Воложа поглотит стартап... (3232)
- Учёные из Оксфорда впервые получили... (3598)
- AMD EPYC и NVIDIA RTX Pro Blackwell: QNAP... (3306)
- NVIDIA сворачивает продажи ряда модулей... (3532)
- ИИ-актёров и нейросценаристов отлучили от... (3602)
- Чем «добрее» ИИ, тем чаще он ошибается —... (4021)
- Хакеры «вырубили» Ubuntu: серверы не... (3821)
- Веб-плеер YouTube начал зависать и «съедать»... (4031)
- Искусственный коллективный разум:... (3945)
- Apple забросали десятками исков за... (3866)
- Юбилейный Apple iPhone Pro получит... (2907)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...