- Новое поколение бюджетного хита от Samsung.... (258)
- Совершенно новая Mazda 6 — от 23 тыс.... (330)
- Samsung Galaxy S25 Ultra наконец-то получит... (285)
- Apple не будет инвестировать в... (351)
- OpenAI рассчитывает определиться со схемой... (250)
- Регуляторы рекомендуют китайским... (13910)
- NASA и «Роскосмос» не пришли к единому... (279)
- В России протестировали... (335)
- «Придётся купить ещё раз»: вдохновлённый... (357)
- Новая статья: Age of Mythology: Retold —... (455)
- Этот китайский процессор иногда может быть... (575)
- Новый Outlook передаёт всю вашу почту в... (448)
- Периферия от гения: Higround выпустила... (12059)
- Ubisoft раскрыла план по улучшению Star Wars... (465)
- Учёные поняли, почему котики бьются током —... (620)
- Придётся запастись очень мощной видеокартой.... (630)
По словам компании SMIC, ее 14-нанометровый техпроцесс N+1 может частично конкурировать с 7-нанометровыми
Дата: 2020-03-22 14:25
Компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), являющаяся наиболее передовым и крупнейшим в Китае производителем полупроводниковой продукции, готовится перейти от 14-нм техпроцесса к техпроцессу, который она называет N+1. Выпуск продукции по новому техпроцессу в ограниченных масштабах должен начаться в четвертом квартале.
Недавно производитель достаточно подробно рассказал о N+1, уточнив, что новый техпроцесс уже привлек заказчиков, для которых с его использованием будут изготавливаться потребительские решения, включая процессоры приложений и микросхемы, отвечающие за подключение, для телевизоров, мобильных и носимых устройств.
Признавая, что это 14-нанометровый техпроцесс, в SMIC утверждают, что в некоторых аспектах он способен конкурировать с 7-нанометровыми техпроцессами Samsung и TSMC.
В частности, по сравнению с нынешним 14-нанометровым техпроцессом обеспечивается повышение производительности на 20 и снижение энергопотребления на 57%. Размеры логических элементов уменьшаются на 63%, а общая площадь SoC — на 55%. Эти показатели выводят N+1 на уровень 7-нанометровых техпроцессов конкурентов, исключая, разве что производительность. С другой стороны, это компенсируется меньшей стоимостью, в честности, за счет меньшего числа масок.
В техпроцессе N+1 и следующем за ним N+2 литография в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) не используется. Но со временем на EUV планируется перевести формирование некоторых слоев в N+2.
КомментироватьПодробнее на iXBT
Предыдущие новости
Microsoft показала дизайн обновленной Windows 10
Видео с нарезкой фрагментов нового дизайна появилось в Instagram руководителя по разработке Windows и устройств Microsoft Паноса Паная В ролике показаны новый вид меню «Пуск», обновленные версии «Проводника» и контекстного...
Android 11 может получить новые функции управления жестами
Еще в минувшем месяце корпорация Google впервые представила версию ОС Android 11 для разработчиков, что позволило исследователям найти в популярной мобильной платформе целый набор новых функций, позволяющих управлять смартфоном...
У нового iPhone 12 не будет пресловутой челки
Эскизы новой линейки смартфонов iPhone 12 опубликовали на сайте Slashleaks. Ранее, из-за утечки в сеть, они были найдены в бета-версии iOS 14.1.1 Всего выложено 3 эскиза. Первая, самая маленькая модель, получила наибольший вырез в верхней части...
Xiaomi научила смартфоны без NFC бесконтактной оплате (но только в Китае)
Только во второй половине прошлого года Xiaomi наконец-то начала оснащать свои недорогие и сверхпопулярные смартфоны Redmi модулем NFC. Однако до сих пор у многих на руках остаются смартфоны предыдущих поколений. И теперь у них тоже есть возможность воспользоваться прелестями бесконтактной оплаты. Как сообщается, платёжный сервис Mi Pay теперь поддерживает также смартфоны без...