- Google может столкнуться с забастовками... (2647)
- «Это не распознавание лиц»: в F******k и... (2545)
- Из WhatsApp исчезнут аватары для... (2721)
- «Тёмная, горячая, безжизненная скала»:... (2345)
- Panthalassa разработала морские... (2365)
- Эксперты «Инфосистемы Джет» представили... (2248)
- Раскрыты самые успешные игровые компании по... (2606)
- Председатель совета директоров Samsung... (3492)
- OpenAI решила ускорить выпуск ИИ-смартфона —... (2204)
- Нет худа без добра: Capcom нашла позитив в... (2341)
- Аналог Face ID без выреза в экране: стартап... (2265)
- OpenAI собиралась выделить роботов и... (2601)
- Россияне начали жаловаться на... (2360)
- ИИ-помощник Copilot начал присваивать себе... (2164)
- Спустя три года поисков игроки наконец нашли... (2930)
- Генераторы изображений стали главным... (2863)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...