- Обнаружены «плазменные пушки» вселенского... (875)
- 7000 мАч, 200 Мп и много памяти. Инсайдер... (1016)
- Редкий успех Tesla: в Норвегии в этом году... (1000)
- Китайские открытые ИИ-модели во всю... (776)
- Смартфон Realme GT 8 Pro поступил в продажу... (1080)
- 7000 мАч, 120 Вт, экран 2K 144 Гц,... (832)
- Нет, новейший Samsung Galaxy Z TriFold не... (942)
- Samsung показала, как производится и... (742)
- Яндекс запустил ИИ-помощника для авторов... (785)
- В мире насчитывается около 1 млрд ПК с... (1040)
- Формат Micro-ATX, но тут сразу четыре слота... (914)
- Создатели возрождённой ролевой песочницы... (1009)
- Intel выборола себе целый 1% на рынке... (1009)
- Первый смартфон Honor с аккумулятором на 10... (1225)
- Ноутбучная видеокарта возглавила рейтинг... (1235)
- 9000 мАч, 100 Вт и «большая... (908)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...