Компании ASML и Intel объявили о новом этапе многолетнего сотрудничества, направленного на продвижение передовых технологий полупроводниковой литографии. Компания Intel заказала у ASML первую в отрасли систему TWINSCAN EXE:5200 — крупносерийную производственную систему для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) с высокой числовой апертурой и производительностью более 200 пластин в час.

По словам ASML, платформа EXE представляет собой эволюционный шаг в технологии EUV и включает в себя новую оптическую конструкцию. Она позволяет значительно ускорить выполнение определенных этапов производства. Системы TWINSCAN EXE:5000 и EXE:5200 характеризуются числовой апертурой 0,55, тогда как у предыдущих машин EUV числовая апертура была равна 0,33. Чем больше числовая апертура, тем выше разрешение проекционной установки. В сочетании с используемой длиной волны этот параметр определяет наименьшие размеры изготавливаемого элемента.

Кстати, компания Intel была первой, кто приобрел более раннюю систему TWINSCAN EXE:5000 в 2018 году.

Согласно планам ASML, технология High-NA, то есть литографии с высокой числовой апертурой, начнет использоваться в серийном производстве в 2025 году.