- В Сколково открылся первый в России кластер... (587)
- В тестах засветился Core Ultra 5 332 всего с... (773)
- Китай почти догнал США в важнейших научных... (622)
- Первая игровая приставка на Core Ultra 300.... (619)
- Microsoft хочет свой идеальный ИИ-чип:... (681)
- Windows 11 теперь прямо пишет, что 8 ГБ... (614)
- «Новый DeepSeek-момент»: первый в мире... (638)
- Марк Цукерберг лично развозил домашний суп... (667)
- Банк России не будет создавать отдельное... (727)
- Intel рассчитывает укрепить свои позиции на... (632)
- Inte рассчитывает укрепить свои позиции на... (624)
- Канадцы нагрели Германию: смелый... (651)
- Philips показала монитор с частотой до 1000... (602)
- Еврокомиссия оштрафовала X Илона Маска на... (634)
- 17-летний японец посредством вайб-кодинга... (676)
- Может ли это быть началом китайской Nvidia?... (648)
Переход на 2 нм. Samsung скупает установки для производства микросхем, каждая стоит от 210 млн по 400 млн долларов
Дата: 2025-10-20 10:37
Компания Samsung намерена значительно расширить парк оборудования для выпуска микросхем методом литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) и приобрести новую партию установок, включая самые передовые системы High NA. Эти шаги направлены на ускорение перехода к массовому производству по 2-нм техпроцессу.
Отдел хранения данных компании установит пять комплектов стандартного EUV-оборудования, создав независимую производственную линию. Ранее фабрики по производству пластин и подразделение хранения в Пхёнтхэке использовали общее оборудование.
Кроме того, Samsung добавит два комплекта литографической техники High NA EUV — одну установку планируется ввести в эксплуатацию в конце 2025 – начале 2026 года. Один комплект появится на заводе в Хвасоне, а второй, вероятно, будет размещён на площадке по производству пластин в Тейлоре.
Фото ASML Стоимость одного комплекта стандартной установки EUV оценивается в 210 млн долларов, оборудования High NA EUV — примерно в 400 млн долларов. Совокупные инвестиции компании в новое оборудование достигнут 1,8 млрд долларов.
Технология High NA EUV обеспечивает до 1,7 раза более точную топологию схем, почти в три раза более высокую плотность транзисторов и повышение оптической точности на 40% по сравнению с классическими системами EUV.
Подробнее на iXBT
Предыдущие новости
УАЗ прекратил выпуск «Буханок» и «Патриотов» с неэкологичными моторами
Ульяновский автозавод больше не будет выпускать свои автомобили с двигателями, отвечающими экологическому классу «Евро-2». «Модификации категории «Евро-2» выведены из модельной гаммы — на сегодняшний день все наши модели соответствуют более экологичным нормам «Евро-5». Возобновление производства автомобилей с «Евро-2» не планируется», — рассказали в пресс-службе УАЗа. Фото...
Миллионы зарядных станций со средней мощностью более 44 кВт. В Поднебесной инфраструктура для электромобилей стремительно растёт
Национальное управление по энергетике Китая опубликовало данные о станциях зарядки электромобилей в Китае. По данным Национальной платформы службы мониторинга зарядных станций, по состоянию на конец сентября этого года общее количество пунктов зарядки электромобилей в Китае достигло 18,063 млн, что на 54,5% больше по сравнению с аналогичным периодом прошлого года. Изображение...
Li Auto, Rox и Zeekr, а также зарядные устройства для них теперь продают в «М.Видео». Названы цены
«М.Видео» сообщает о старте пилотного проекта по продаже электромобилей и зарядной инфраструктуры на сайте и в мобильном приложении. Проект реализуется в партнерстве с АГ «Авилон» и компанией Punkt E, предлагающей решения для зарядки электротранспорта. По данным «Автостат», за первую половину 2025 года количество электромобилей и подзаряжаемых гибридов в стране выросло до 137...
Маск подсмотрел у Telegram: неактивные логины в X станут товаром на новом маркетплейсе
Социальная платформа X анонсировала запуск торговой площадки под названием X Handle Marketplace, на которой будут доступны неактивные логины пользователей. По сообщению The Verge, совсем скоро подписчики тарифов Premium Plus и Premium Business получат возможность просматривать и запрашивать такие логины. Источник изображения: Marten...