- Сотрудники Amazon используют ИИ вхолостую —... (963)
- Noctua выпустила чёрный 120-мм вентилятор... (1121)
- Matter получит интеграцию с OpenADR — умный... (1081)
- Dell выпустила ИИ-сервер PowerEdge XE9785 с... (3629)
- Больше не «007 кадров»: новая геймплейная... (951)
- Видео: человекоподобные роботы Figure... (1154)
- «Пассворк» стал первым в России менеджером... (865)
- OpenAI запустила Daybreak — ответ на... (983)
- В Linux предложили встроить экстренный... (1092)
- Lies of P 2 вошла в стадию активной... (1021)
- Общие продажи игр серии Silent Hill... (1135)
- «Базис» представил конструктор платформенных... (1076)
- Unitree показала 500-килограммового... (869)
- «У магазина поверните направо»: «Яндекс... (1069)
- Предложен протокол IPv8 — с обратной... (877)
- Canon закрыла очередной завод по... (1233)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...