- Китай грозит отправить США в рецессию —... (865)
- Китай собрался лишить США доступа к... (934)
- Акции китайских чипмейкеров взлетели, но... (1031)
- 6510 мАч, 90 Вт, IP68, 200-мегапиксельная... (887)
- Оказывается, самый популярный смартфон в... (948)
- Китай второй раз запустил в космос самую... (939)
- Представлен складной смартфон Samsung W26 —... (965)
- Хакерская группировка объявила о взломе... (1011)
- Фотофлагман Xiaomi 17 Ultra с поддержкой... (1010)
- Чудовищный ИИ-ускоритель на самом... (970)
- Чтобы смотреть на видеокарту, когда не... (918)
- Когда RTX 5090 явно не твоя судьба.... (930)
- AMD теперь в отстающих. Intel представила... (922)
- AMD снова покажет Intel, как нужно сохранять... (1044)
- В новой Call Of Duty: Black Ops 7 видеокарта... (987)
- Домашние кинотеатры Bose SoundTouch... (1095)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...