- Миллионы IOPS, без посредников: NVIDIA SCADA... (487)
- Клон Geely Tugella под новым названием,... (578)
- На порядок точнее GPS: японская... (511)
- Новая «космическая фабрика» Varda Space... (564)
- «Конец эпохи пиратства»: легендарная хакер... (687)
- AWS и Google Cloud подружили свои облачные... (448)
- АвтоВАЗ и ГАЗ не спешат, а УАЗ первым в... (584)
- Audi снова в российском реестре: немецкий... (524)
- Итоги ноябрьских распродаж: россияне... (745)
- Varda Space Industries научилась выращивать... (660)
- Обновлённый рамный внедорожник Tank 300... (588)
- Стартап Reditus Space представил... (630)
- Состоялся пятый успешный пуск Vega C:... (636)
- 120-герцевый Samsung, который работает от... (758)
- Samsung наконец представила трёхстворчатый... (526)
- Россиянину продали бракованный Chery Tiggo 8... (560)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...