- Microsoft запускает «мягкие» сокращения: 7 %... (4562)
- Представлена DeepSeek V4 — открытая... (3786)
- Intel заявила, что без оптимизаций игры... (3869)
- Porsche представила электрический Cayenne с... (5401)
- NASA утвердило состав миссии SpaceX Crew-13... (3796)
- Xiaomi представила ИИ-модели MiMo V2.5 для... (4572)
- Спортивный кроссовер Xiaomi YU7 GT... (4830)
- Curator: количество DDoS-атак интенсивностью... (3997)
- Пламенный двухмерный боевик Nocturnal стал... (4869)
- Samsung создала переключаемый... (5182)
- Смартфоны Huawei nova 15 и 15 Pro с... (4717)
- Microsoft добавила в Word, Excel и... (3899)
- В США начали строить первый ядерный реактор... (4979)
- Ubisoft раскрыла системные требования... (4499)
- Бум дата-центров помогает угольным... (4717)
- Россияне стали чаще выбирать бюджетные... (4765)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...