- Ручки с экранами для Lada Iskra ждать ещё,... (12)
- Вселенная оказалась полна сложных... (14)
- Oracle заполучила загадочного облачного... (47)
- Обнаружено самое любимое число ИИ — и это не... (44)
- Cloudflare закрыла ИИ-краулерам бесплатный... (82)
- Запахло жареным: Трамп предупреждает, что... (42)
- Трамп пообещал сэкономить состояние для США,... (64)
- Lada Iskra получила климат-контроль... (42)
- Ракету с грузовиком «Прогресс МС-31»... (71)
- Electronic Arts опубликовала тизер первой за... (125)
- Xiaomi распродала все электромобили YU7 на... (105)
- Обновление системы резервного копирования... (107)
- В аренде автомобилей в «Авито Авто»... (139)
- Nvidia подтвердила, что скоро прекратит... (113)
- В России запретят называть отечественными... (141)
- Будущее Halo прояснится в октябре, и фанаты... (110)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...