- В «Росатоме» изготовили первую партию... (213)
- Индийская ракета LVM3 вывела на орбиту самый... (219)
- Цены на Lada повысят сразу после праздников:... (270)
- Наконец-то OLED-монитор с прямым... (193)
- 8000 мАч, 165-герцевый экран Samsung,... (261)
- Холдинг Трампа слился с разработчиком... (153)
- «Билайн»: малый бизнес чаще выбирал... (200)
- Чтобы OLED снова был чёрным. Asus готовит... (201)
- Как вручную активировать в Windows 11... (230)
- Это новый смартфон Honor за 100 долларов.... (294)
- В России стартовали продажи Haval H5 2025:... (286)
- Вот бы и в Windows так. Обновление ядра... (294)
- 32 дюйма 6K, 27 дюймов 5K и 240-герцевый... (396)
- Оперативная память для iPhone 17 Pro... (384)
- ИИ подскажет, как выглядит сцена: в «Яндекс... (310)
- Samsung представила первый в мире монитор с... (214)
Раскрыты сроки выхода Apple MacBook на процессорах «для смартфонов»
Дата: 2020-02-25 10:59
Подробнее на Yandex.ru
Предыдущие новости
Нитрид галлия обещает изменение форм-фактора зарядных устройств
Производство нового зарядного устройства для смартфонов мощностью 65 Вт, использующего нитрид галлия (GaN) и имеющего существенно меньшие размеры по отношению к своим аналогам, запустила компания Xiaomi, пишет портал ixbt.com 22 февраля со ссылкой на китайский сайт...
Распродажа: В России впервые подешевел смартфон Samsung Galaxy A51
На платформе Tmall запущена акция, позволяющая приобрести смартфон Samsung Galaxy A51 заметно дешевле, чем он стоит в большинстве других магазинов. Обычная цена официального Samsung Galaxy A51 с 64 Гбайт памяти, напомним, 19 990...
Главный конкурент Xiaomi Mi 10. Мощные флагманы iQOO 3 и iQOO 3 5G представлены официально
iQOO, игровой суббренд Vivo, представил сегодня горячо ожидаемый флагманский смартфон iQOO 3 и его вариацию iQOO 3 5G. Смартфон установил новый рекорд по производительности в AnTuTu. Как объявил производитель во время онлайн-презентации, смартфон набрал в бенчмарке 610 576 баллов. Это заметно больше результатов новых флагманов Xiaomi, прозванных компанией королями...
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
На проходящей сейчас конференции SPIE Advanced Lithography Conference институт imec и компания ASML объявили о прорыве в EUV-литографии. Речь идет о формировании линий с шагом 24 нм с применением всего одной экспозиции. Линии с таким шагом соответствуют размерам критически важных металлических слоев технологического узла 3 нм, формируемых на конечной стадии полупроводникового...